आण्विक परत निक्षेपण तथा स्पंदित लेज़र निक्षेपण

ALD and PLD are used to deposit thin films of materials with different compositions and morphology.

Ultrathin epitaxial films of V₂O₅ and MoS₂ nanowalls deposited by ALD.

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पृष्ठ अंतिम बार अद्यतन तिथि:21-07-2023 02:20 पु