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जवाहरलाल नेहरू उन्नत वैज्ञानिक अनुसंधान केंद्र - एक स्वायत्त संस्थान
जवाहरलाल नेहरू उन्नत वैज्ञानिक अनुसंधान केंद्र - एक स्वायत्त संस्थान

आण्विक परत निक्षेपण तथा स्पंदित लेज़र निक्षेपण

ALD and PLD are used to deposit thin films of materials with different compositions and morphology. 

Ultrathin epitaxial films of V2O5 and MoS2 nanowalls deposited by ALD.